電鍍,即采用電化學(xué)的方法使金屬離子還原為金屬,并在金屬或非金屬制品表面形成符合要求的平滑、致密的金屬覆蓋層。電鍍后的鍍層性能在很大程度上取代了原先基體的性質(zhì),起到了裝飾與防護的作用。隨著(zhù)科學(xué)技術(shù)與生產(chǎn)力的提高,電鍍工藝已經(jīng)在各個(gè)領(lǐng)域發(fā)揮著(zhù)不可替代的作用。

　　電流通過(guò)鍍槽是電鍍的必要條件,鍍件上的金屬鍍層就是在電流流過(guò)電鍍槽時(shí)所產(chǎn)生電化學(xué)反應而形成的。

　　根據電鍍的基本原理,改進(jìn)電鍍質(zhì)量有兩個(gè)方法:調整電鍍溶液;改進(jìn)電鍍電源?，F實(shí)中人們廣泛采用改進(jìn)電鍍電源的方法來(lái)提高電鍍的性能。在電鍍電源的發(fā)展過(guò)程中,由全控型電力電子開(kāi)關(guān)構成的脈沖電源是電鍍電源的一次革命。這種電源體積小、性能優(yōu)越、紋波系數小、不易受輸出電流的影響。

　　1　脈沖電源電鍍的基本原理：

　　脈沖電源電鍍是一項新的電鍍技術(shù)。它的特點(diǎn)是由脈沖電流對電極過(guò)程動(dòng)力學(xué)的特效影響所決定的,其中最重要的是對傳質(zhì)過(guò)程中的影響。在直流電鍍時(shí),鍍液中被鍍出的金屬離子在陰極表面附近溶液中逐漸被消耗,造成了該處被鍍金屬離子與溶液中該離子的濃度出現差別。這種差別隨著(zhù)使用的電流密度的增高而加大。當陰極附近液層中的該離子的濃度降到0時(shí),就達到了極限電流密度,傳質(zhì)過(guò)程完全受到擴散控制。但在脈沖電鍍時(shí),由于有關(guān)斷時(shí)間的存在,被消耗的金屬離子利用這段時(shí)間擴散、補充到陰極附近,當下一導通時(shí)間到來(lái)時(shí),陰極附近的金屬離子濃度得到恢復,故可以使用較高的電流密度;因此脈沖電鍍時(shí)的傳質(zhì)過(guò)程與直流電鍍時(shí)的傳質(zhì)過(guò)程的差異,造成了峰值電流可以大大高于平均電流,促使晶體形成的速度遠遠高于晶體長(cháng)大的速度,使鍍層結晶細化,排列緊密,孔隙減小,電阻率低。并且直流電鍍時(shí)的連續陰極極化電位下的各種物質(zhì)在陰極表面上的吸脫附過(guò)程與脈沖條件下的間斷高陰極極化電位下的吸脫附過(guò)程的機理有了很大的差異,造成了同樣的溶液配方及添加劑在電源波形不同時(shí),表現的作用差異也很大。

　　脈沖電源其電流呈脈沖方式流動(dòng),并可在瞬時(shí)產(chǎn)生高密度電流;因此,在電鍍時(shí)能將底層均勻地涂覆到鍍件上,并使之加速,提高了效率;鍍件表面均勻、細致,使金銀等貴重金屬得到很大的節約。由此可以看出,可以調節占空比及頻率的脈沖電鍍電源,尤其是開(kāi)關(guān)電源,將隨之得到廣泛的應用。